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說(shuō)明書(shū)摘要(申請(qǐng)專利)

http://lhoil.com  2006-8-7 10:18:11


1.格式 說(shuō)明書(shū)摘要 
 。▽(xiě)明說(shuō)明書(shū)中的主要內(nèi)容) 
               。玻f(shuō)明 
 。ǎ保┥暾(qǐng)發(fā)明或者實(shí)用新型專利時(shí)可以提交說(shuō)明書(shū)摘要,一式兩份(正副本 
一份)。 
  (2)說(shuō)明書(shū)摘要應(yīng)當(dāng)打字或者印刷,字跡整潔清楚,黑色,符合制版要求。 
不得涂改,字高在0.3-0.4厘米之間,行距在0.3-0.4厘米之間。紙 
張應(yīng)當(dāng)縱向使用,只限于使用正面。四周須留有空白,左側(cè)和頂部各留2.5厘米, 
右側(cè)和底部各留1.5厘米。 
  (3)摘要應(yīng)當(dāng)首先重復(fù)發(fā)明或者實(shí)用新型名稱,然后指明所屬的技術(shù)領(lǐng)域, 
需要解決的技術(shù)問(wèn)題,主要技術(shù)特征和用途。摘要可以包含最能說(shuō)明發(fā)明或者實(shí)用 
新型的化學(xué)式或者一幅附圖。文字不超過(guò)200字。郵寄申請(qǐng)文件不得折疊。  


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